Gasy manokana
-
Sulfur Tetrafluoride (SF4)
EINECS NO: 232-013-4
CAS NO: 7783-60-0 -
Oksida azota (N2O)
Ny oxide nitrous, fantatra amin'ny anarana hoe entona fihomehezana, dia simika mampidi-doza miaraka amin'ny formula simika N2O.Izy io dia entona tsy misy loko sady mamerovero.Ny N2O dia oksizenina afaka manohana ny fandoroana ao anatin'ny toe-javatra sasany, saingy miorina amin'ny mari-pana ao amin'ny efitrano ary misy fiantraikany kely amin'ny fanatoranana., ary afaka mampiomehy ny olona. -
Carbon Tetrafluoride (CF4)
Carbon tetrafluoride, fantatra ihany koa amin'ny hoe tetrafluoromethane, dia entona tsy misy loko amin'ny hafanana sy fanerena ara-dalàna, tsy mety levona anaty rano.Ny entona CF4 no entona etching plasma be mpampiasa indrindra amin'ny indostrian'ny microelectronics.Izy io koa dia ampiasaina ho toy ny gazy laser, refrigerant cryogenic, solvent, lubricant, insulating material, ary coolant ho an'ny fantsona infrared detector. -
Sulfuryl Fluoride (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, entona misy poizina, no tena ampiasaina amin'ny famonoana bibikely.Satria ny fluoride sulfuryl dia manana ny toetran'ny diffusion matanjaka sy ny permeability, ny famonoana bibikely midadasika, ny dosage ambany, ny habetsaky ny sisa tavela, ny hafainganam-pandehan'ny bibikely, ny fotoana fanaparitahana entona fohy, ny fampiasana mora amin'ny hafanana ambany, tsy misy fiantraikany amin'ny tahan'ny fitsimohany sy ny poizina ambany kokoa. Izy io dia ampiasaina betsaka kokoa amin'ny trano fanatobiana entana, sambo entana, tranobe, tohodrano fitahirizana, fisorohana ny termite, sns. -
Silane (SiH4)
Silane SiH4 dia entona voatsindry tsy misy loko, misy poizina ary tena mavitrika amin'ny hafanana sy ny tsindry ara-dalàna.Silane dia be mpampiasa amin'ny fitomboan'ny epitaxial ny silisiôma, akora ho an'ny polysilicon, silisiôma oxide, silisiôma nitride, sns, masoandro sela, Optical fibre, miloko fitaratra famokarana, ary simika etona deposition. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, entona madio: 99.999%, matetika ampiasaina ho sakafo aerosol propellant sy antonony entona.Matetika izy io no ampiasaina amin'ny semiconductor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition) dingana, C4F8 dia ampiasaina ho solon'ny CF4 na C2F6, ampiasaina ho fanadiovana entona sy semiconductor dingana etching entona. -
Nitric Oxide (NO)
Ny entona oxide nitric dia fitambarana azota miaraka amin'ny formula simika NO.Izy io dia gazy tsy misy loko, tsy misy fofona, misy poizina izay tsy mety levona anaty rano.Ny oksizenina azota dia tena mihetsika ara-tsimika ary mihetsika amin'ny oksizenina mba hamoronana gazy azota azota (NO₂). -
Hydrogène chloride (HCl)
Ny entona HCL chloride hydrogène dia entona tsy misy loko misy fofona masiaka.Ny vahaolana misy azy dia antsoina hoe asidra hydrochloric, fantatra ihany koa amin'ny asidra hydrochloric.Ny klôro hydrogène dia ampiasaina indrindra amin'ny fanaovana loko, zava-manitra, fanafody, chloride isan-karazany ary inhibitors corrosion. -
Hexafluoropropylene (C3F6)
Hexafluoropropylene, raikipohy simika: C3F6, dia entona tsy misy loko amin'ny hafanana sy fanerena ara-dalàna.Ampiasaina indrindra izy io mba hanomanana vokatra simika tsara misy fluorine isan-karazany, intermediate pharmaceutique, mpamono afo, sns., ary azo ampiasaina amin'ny fanomanana fitaovana polymère misy fluorine. -
Amoniaka (NH3)
Ny amoniaka rano / amoniaka anhydrous dia akora simika manan-danja amin'ny fampiharana isan-karazany.Ny amoniaka rano dia azo ampiasaina ho toy ny refrigerant.Izy io dia ampiasaina indrindra amin'ny famokarana asidra asidra, urea ary zezika simika hafa, ary azo ampiasaina ho akora ho an'ny fanafody sy ny pestiside.Ao amin'ny indostrian'ny fiarovan-tena dia ampiasaina amin'ny fanaovana propellants ho an'ny balafomanga sy balafomanga.
